01100nam a2200217 c 4500001001300000005001500013008004100028040001100069041001300080052004000093245024200133300003300375545005300408545007000461653008800531700001900619700004800638773015900686900001900845900001800864KSI00005438020040207083322031010s2000    ulka          000   kor    a0110010 akorbeng01a569.205b한597ㅈㄱc13(9)-13(12)00a자장강화된 유도결합 플라즈마를 이용한 (Ba,Sr)TiO₃ 박막의 식각 특성 연구=x(The)etching characteristics of (Ba,Sr)TiO₃ thin films using magnetically enhanced inductively coupled plasma/d민병준,e김창일  ap. 996-1002:b삽도;c26 cm  a민병준, 중앙대학교 전자전기공학부  a김창일, 중앙대학교 전자전기공학부bcikim@cau.ac.kr  a유도결합a(Ba,Sr)TiO₃a플라즈마aFRAMaBSTaEtchingaAr/CF₄aMEICPaXPS1 a민병준4aut1 a김창일,g金昌日,d1960-0KAC2018385740 t전기전자재료학회논문지.d한국전기전자재료학회.gVol.13 no.12(2000년 12월), p. 996-1002q13:12<996w(011001)KSE199800338,x1226-794510aMin, Byung-Jin10aKim, Chang-Il