01529na  a2200325   4500001001300000005001500013008004100028040001100069041001300080052003900093245022100132300003200353545005300385545007100438545007100509545005300580545007000633653007800703700001900781700004800800700004800848700001400896700004800910773015500958900001801113900001701131900001801148900001901166900001801185KSI00005425320040206083304031010s2000    ulka          000   kor    a0110010 akorbeng01a569.205b한597ㅈㄱc13(1)-13(4)00aAr/CHF₃플라즈마를 이용한 SBT 박막에 대한 식각 메카니즘 연구=x(A)study on etching mechanism of SBT thin film by using Ar/CHF₃plasma/d서정우,e이원재,e유병곤,e장의구,e김창일  ap. 183-187:b삽도;c26 cm  a서정우, 중앙대학교 전자전기공학부  a이원재, 한국전자통신연구원 회로소자기술연구소  a유병곤, 한국전자통신연구원 회로소자기술연구소  a장의구, 중앙대학교 전자전기공학부  a김창일, 중앙대학교 전자전기공학부bcikim@cau.ac.kr  aAr/CHF₃플라즈마a메카니즘a식각aSBTaEtchingaCHF₃aPlasma1 a서정우4aut1 a이원재,g李元在,d1967-0KAC2018312381 a유병곤,g兪炳坤,d1957-0KAC2018211031 a장의구1 a김창일,g金昌日,d1960-0KAC2018385740 t전기전자재료학회논문지.d한국전기전자재료학회.gVol.13 no.3(2000년 3월), p. 183-187q13:3<183w(011001)KSE199800338,x1226-794510aSeo, Jung-Woo10aLee, Won-Jae10aYu, Byong-Gon10aChang, Eui-Goo10aKim, Chang-Il