01645nam a2200325 c 4500001001300000005001500013008004100028040001100069041001300080052003300093245028800126300003200414545006000446545009200506545006000598545005000658545006000708653015400768700001900922700004800941700001400989700004801003700001401051773015501065900002201220900001901242900001901261900001901280900002001299KSI00005392520040205083219031010s1998    ulka          000   kor    a0110010 akorbeng01a569.205b한597ㅈㄱc11(1)00a진공증착중합법에 의해 제조된 폴리이미드 박막의 플라즈마 처리에 의한 표면의 변화=x(The)surface effect of polyimide thin film by vapor deposition polymerization method with plasma treatment/d김형권,e이붕주,e김종택,e김영봉,e이덕출  ap. 340-346:b삽도;c26 cm  a김형권, 나고야대학교 공학부 전기공학과  a이봉주, 인하대학교 공과대학 전기공학과bg1982550@inhavision.inha.ac.kr  a김종택, 인하대학교 공과대학 전기공학과  a김영봉, 인하공업전문대학 전기과  a이덕출, 인하대학교 공과대학 전기공학과  a진공증착중합법a폴리이미드박막a플리즈마 처리aPolyimide thin filmaVapor deposition polymerization methodaVDPMaPlasma treating1 a김형권4aut1 a이붕주,g李鵬周,d1973-0KAC2017123341 a김종택1 a김영봉,g金永鳳,d1945-0KAC2018042311 a이덕출0 t전기전자재료학회논문지.d한국전기전자재료학회.gVol.11 no.5(1998년 5월), p. 340-346q11:5<340w(011001)KSE199800338,x1226-794510aKim, Hyeong-Gweon10aLee, Boong-Joo10aKim, Jong-Taek10aKim, Yong-Bong10aLee, Duck-Chool